Aatomkihtsadestusseadme (ALD) tarnimine

Kokkuvõte

Heidelbergi ülikool hangib ühe uue termilise ja plasmaga toetatud aatomkihtsadestuse (ALD) süsteemi, millega valmistada ülitäpseid nanomeetrise paksusega õhukesi kilesid tasapinnalistele ja kolmemõõtmeliselt struktureeritud aluspindadele. Süsteem peab võimaldama ülijuhtivate kilede, sealhulgas nioobium nitriidi, dielektriliste ja magnetiliste materjalide ning suure dielektrilise läbitavusega materjalide sadestamist ning kihtide paksuse täpset kohapealset jälgimist. Tarne hõlmab seadme paigaldamist ja töökorda seadmist, funktsionaalsuse katsetamist, vastuvõtmist, kasutusjuhendamist ning kolmepäevast kohapealset koolitust kahele ülikooli töötajale. Hange ei ole osadeks jaotatud.